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粉底高剪切超高速研磨分散機(jī)

粉底高剪切超高速研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1274
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詳細(xì)介紹

粉底高剪切超高速研磨分散機(jī)

粉底是妝容的基礎(chǔ),粉狀質(zhì)地的粉底是*常見的,涂在臉上顯得輕柔自然,是日常妝的**選擇。一般有粉底液、粉餅裝與散粉裝三種。進(jìn)行化妝時(shí),人們總不忘給自己打一層粉底,因此,在某種程度上說,粉底是女人妝容的基礎(chǔ),如何打好這層基礎(chǔ),那就得對照于你的膚色了。任何顏色的粉底在選用的時(shí)候都不能脫離本身膚色,而試用也**是在臉部皮膚上。

粉底化妝品乳體液是有油、脂、蠟等許多原料混合而成的一種體系,因此混合機(jī)是重要的設(shè)備。為要制得高質(zhì)量的乳體液,必須選用符合生產(chǎn)要求的乳化設(shè)備。研磨分散機(jī)是一種剪切力很大的乳化設(shè)備,其主要部件是轉(zhuǎn)子和定子,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM,這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速,軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是普通膠體磨的3-4倍,研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更小,效果更好),可以迅速地將液體、固體或膠體粉碎成微粒,并且混合均勻。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫妫貏e要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

粉底高剪切超高速研磨分散機(jī) 

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