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您的位置:首頁  /  產品展示  /  分散機  /  高剪切分散機  /  XMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

  • 產品型號:XMD2000
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1361
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詳細介紹

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機 ,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

1、因目前實驗設備轉、定子間隙不可調,是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑

2、該機粉碎以上附加劑,會不會造成定轉子接觸部分磨損

3、該機能否實現細碎至通過顆粒直徑****小于50um。其中D95

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*終產品: 混懸液

用途: 混懸液

工藝要求: 與藥物接觸部分為

原材料: 硫酸頭孢喹肟

液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

固體(%): 硫酸頭孢喹肟

密度(kg/m溫度(℃): 35

 將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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