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隔離霜真空均質乳化機

隔離霜真空均質乳化機強力平衡式等規(guī)曲線的轉子配以相應結構的定子,實現流體高能剪切、研磨、離心、從而保證膏體細膩、光滑;鍋體及管道表面鏡面拋光300EMSH(衛(wèi)生級),符合日化及GMP規(guī)范。

  • 產品型號:XRS
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:2212
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詳細介紹

一、產品關鍵詞:隔離霜真空均質乳化機,BB霜高速乳化機實驗室2L真空乳化機,化妝品乳化機,化妝品混合攪拌設備

二、隔離霜真空乳化機簡介:

目前在隔離霜研磨色漿一般采用三棍研磨機,效率非常低,研磨一個批次需次需要10幾個小時,或者采用普通的膠體磨,效果也非常低,時間長,而采用目前的隔離霜膠體磨,縮短研磨色漿的時間,一般研磨一1-2次就達到要求。然后乳化。

三、產品特性:

真空乳化機,18000轉速乳化機,高剪切乳化機,隔離霜均質乳化機,隔離霜研磨乳化機

四、真空乳化機設備特點:


☆ 高效、節(jié)能


傳統(tǒng)設備需8小時的分散加工過程,XRS設備1小時左右完成,超細分散*,能耗極大降低;

☆ 高速、高品質

傳統(tǒng)設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉,帶乳化功能的轉速每分鐘1500轉以內,只完成宏觀分散加工,超細分散能力極為有限XRS設備的轉速每分鐘10000~18000轉之間,超高線速度產生的剪切力,瞬間超細分散漿料中的粉體。 

本設備是專門針對化妝品及制藥行業(yè)生產小批量高檔產品,機經常生產多種產品而設計;是美容行業(yè)的機型,其特點為:下置均質機,可加大功率。到年度的物料特別有效。主鍋蓋能自由升降,能*清洗鍋體,可傾式出料,程度保證出料,減少浪費,是中小型企業(yè)選擇。適應于大容積生產的產品。

性能及特點:
復合刮板攪拌槳,適合各種復雜配方,達到優(yōu)化能效;
◆聚四氟乙烯刮板,隨時迎合攪拌槽之形體,刮凈鍋壁粘料;

◆均質機安裝在鍋底部,可加大電動機功率,更*,更有力。在少量生產時,亦可充分發(fā)揮均質效果;

◆強力平衡式等規(guī)曲線的轉子配以相應結構的定子,實現流體高能剪切、研磨、離心、從而保證膏體細膩、光滑;鍋體及管道表面鏡面拋光300EMSH(衛(wèi)生級),符合日化及GMP規(guī)范。

、隔離霜真空均質乳化機優(yōu)點
機組采用上部同軸三重型攪拌器,液壓升降開蓋,快速均質攪拌器轉速:0—3500r/min(變頻調速)、慢速刮壁攪拌器轉速:0—63r/min(變頻調速)、均質器采用高剪切渦流式乳化攪拌機,慢速刮壁攪拌自動緊貼鍋底及鍋壁。采用真空吸料,特別對粉體物料利用真空吸入避免粉塵飛揚。整個工序在真空條件下進行,防止物料在高速攪拌后產生氣泡,能達到衛(wèi)生無菌要求。本系統(tǒng)配有CIP清洗系統(tǒng)、容器與物料接觸部分采用SUS316L材料制造、內表面鏡面拋光300EMSH(衛(wèi)生級)為了確保控制部分的穩(wěn)定、真空泵采用納西姆(原西門子)公司產品、按鈕采用日本富士公司產品、變頻器采用日本松下電工、電器控制部分采用西門子公司產品。本機組*符合GMP要求制造,是目前*、理想的膏、霜生產設備。

隔離霜乳化機的細化作用一般來說要弱于均質機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化。

XRS2000乳化機系列是專門隔離霜膠體磨特別是那些需要很好乳化和分散效果的生產。XRSS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求.

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XRS2000/4

300-1000

18000

44

2.2

DN25

DN15

XRS2000/5

1000-1500

10500

44

7.5

DN40

DN32

XRS2000/10

3000

7300

44

15

DN50

DN50

XRS2000/20

8000

4900

44

37

DN80

DN65

XRS2000/30

20000

2850

44

55

DN150

DN125

XRS2000/50

40000

2000

44

160

DN200

DN150

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